Hochreine Materialien als Motor für Innovationen
Unsere Highlight-Produkte bieten die Reinheit und Beständigkeit, die für die Herstellung von Batterien, Halbleitern und elektronischen Bauteilen erforderlich sind.
Salzsäure
Unverzichtbar für die Reinigung und das Ätzen von Halbleitern in industriellen Anwendungen.
Methanol
Es wird als Lösungsmittel und Kraftstoffalternative verwendet und unterstützt die Elektronikfertigung, chemische Synthese und Energieanwendungen.
Kaliumhydroxid (KOH)
Wird häufig in der Halbleiterherstellung, bei elektrolytischen Prozessen und in industriellen Reinigungslösungen eingesetzt.
Flusssäure
Sie ist bekannt für ihre Fähigkeit, Glas und Silizium zu ätzen, was sie in der Elektronik und der Waferverarbeitung unentbehrlich macht.
Wasserstoffperoxid
Hochreines Wasserstoffperoxid wird hauptsächlich als umweltfreundliches Oxidationsmittel für die Reinigung von Wafern, die Oberflächenkonditionierung und Ätzprozesse verwendet.
Salpetersäure
Spielt aufgrund ihrer stark oxidierenden Eigenschaften eine Schlüsselrolle in der Leiterplattenproduktion, der Halbleiterherstellung und der Metallraffination.
Aceton (DMK)
Ein schnell verdampfendes Lösungsmittel, das häufig zur Reinigung elektronischer Komponenten und zur präzisen Entfernung organischer Rückstände verwendet wird.
Schwefelsäure
Ein zentraler Bestandteil in der Batterieproduktion, der Metallbehandlung, der Leiterplattenverarbeitung sowie dem Ätzen und Reinigen von Halbleitern.
