Högrena material som driver innovation
Våra produkter ger den renhet och konsistens som krävs för batteri-, halvledar- och elektronikkomponenttillverkning.
Klorvätesyra
Oumbärlig för rengöring och etsning av halvledare i industriella tillämpningar.
Metanol
Används som lösningsmedel och bränslealternativ och används inom elektroniktillverkning, kemisk syntes och energitillämpningar.
Väteperoxid
Väteperoxid med hög renhet används huvudsakligen som ett miljövänligt oxidationsmedel för rengöring av kiselskivor, ytkonditionering och etsningsprocesser.
Svavelsyra
En viktig komponent i batteriproduktion, metallbehandling och kretskortsbearbetning samt etsning och rengöring av halvledare.
Kaliumhydroxid (KOH)
Används ofta i halvledartillverkning, elektrolytiska processer och industriella rengöringslösningar.
Fluorvätesyra
Känd för sin förmåga att etsa glas och kisel, vilket gör den oumbärlig inom elektronik och waferbearbetning.
Aceton (DMK)
Ett lösningsmedel med snabb avdunstning som ofta används för att rengöra elektroniska komponenter och avlägsna organiska rester med precision.
Salpetersyra
Spelar en viktig roll vid kretskortstillverkning, halvledartillverkning och metallraffinering på grund av sina starka oxiderande egenskaper.
